潔凈室屬于凈化工程范圍，設(shè)備和設(shè)施用于某些特定的空間：溫度，濕度，風(fēng)量，壓差，清潔度，沉淀細(xì)菌，漂浮細(xì)菌等項(xiàng)目，以調(diào)整和控制項(xiàng)目符合某些標(biāo)準(zhǔn)。凈化實(shí)驗(yàn)室均已通過醫(yī)藥潔凈檢測(cè)中心檢測(cè)，為萬(wàn)級(jí)潔凈實(shí)驗(yàn)室。主要開展項(xiàng)目為：CIK細(xì)胞免疫治療、DC－CIK免疫治療、超級(jí)免疫粒細(xì)胞治療等?？諝庹{(diào)節(jié)系統(tǒng)必須可靠運(yùn)行，采用先進(jìn)技術(shù)，合理利用和節(jié)約能源與資源，保證環(huán)境的質(zhì)量和安全，為實(shí)驗(yàn)人員提供所需要的溫度和濕度，保障生物實(shí)驗(yàn)在安全的條件下進(jìn)行，以確保實(shí)驗(yàn)結(jié)果得準(zhǔn)確性。實(shí)驗(yàn)室凈化參與多個(gè)醫(yī)療重點(diǎn)課題的實(shí)驗(yàn)和臨床研究，同時(shí)參加國(guó)際會(huì)議和國(guó)內(nèi)重點(diǎn)峰會(huì)論壇，為當(dāng)今的細(xì)胞免疫治療和癌癥/肝病患者奉獻(xiàn)了自己的一份力量。潔凈實(shí)驗(yàn)必須控制實(shí)驗(yàn)室的潔凈度，對(duì)新風(fēng)進(jìn)行過濾，使實(shí)驗(yàn)室達(dá)到一定的凈化要求。其中排風(fēng)系統(tǒng)是重點(diǎn)，對(duì)于保證實(shí)驗(yàn)室相對(duì)負(fù)壓環(huán)境和有效過濾室內(nèi)污染排風(fēng)起著重要的作用。潔凈實(shí)驗(yàn)室確保手術(shù)臺(tái)潔凈度達(dá)標(biāo)，一般多采用垂直層流式效果較好　層流手術(shù)室是一個(gè)"正壓"環(huán)境，其空氣壓力根據(jù)其不同區(qū)域（如手術(shù)間、無菌準(zhǔn)備間、刷手間、麻醉間和周圍干凈區(qū)域等）潔凈度不同要求而不同。如果房東的潔凈室有前者的要求，那就是凈化項(xiàng)目。

凈化工程在規(guī)定的空間范圍內(nèi)，將空氣中的微粒子、有害空氣、細(xì)菌等污染物排除，并將室內(nèi)溫度、潔凈度、壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動(dòng)及照明、靜電控制在某一需求范圍內(nèi)的工程學(xué)科。凈化工程所特別設(shè)計(jì)的房間，不論外在空氣條件如何變化，室內(nèi)均具有維持原先所設(shè)定要求之潔凈度、溫濕度及壓力等性能。這比用紊流來描述亂流潔凈室更確切、更全面。

后對(duì)溫度，凈化工程的具體工藝要求但作為一般原理，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來越小..

例如，在用于大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，要求玻璃和作為掩模材料的硅晶片之間的熱膨脹系數(shù)的差異越來越小。直徑為100微米，溫度上升1度的硅晶片導(dǎo)致0.24um的線性膨脹，因此它必須具有±0.1度的恒定溫度，并且濕度值通常較低，因?yàn)樵谌藗兂龊怪螅a(chǎn)品將被污染和凈化。該項(xiàng)目特別適用于害怕鈉的半導(dǎo)體車間。這個(gè)車間的溫度不應(yīng)超過25度。

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